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ICP光谱仪在光源方面的进步

更新时间:2021-03-08  |  点击率:1161
  ICP光谱仪在光源方面的进步
  ICP光谱仪在不断发展,这里主要介绍下其在光源方面的进步。
  1、高频发生器的改进:由于ICP电子密度和激发温度随频率的增加而减低,而光源的背景强度(Ar的连续光谱)则与频率的平方成反比,随频率的提高要降低得多。因此,为了提高高频发生器的稳定性,ICP光谱仪采用具有很高频率稳定性和输出功率稳定性的固态发生器,等离子体阻抗可自动调节补偿,并由计算机控制工作参数、设定点火程序,可自动点火。因此,新型的商品仪器均已使用固态发生器,结合对样品的引入系统而采取恒温,提高进样的稳定性,加上光学系统的恒温,热稳定性高,使仪器预热时间大为缩短,大大提高了ICP光谱仪分析法的分析精度和准确度。
  2、采用端视技术以提高灵敏度: 近年来商品ICP光谱仪推出轴向ICP,有较高的灵敏度和较好的检出限。ICP光谱仪中,ICP矩管通常是垂直放置,从侧面观察,称为径向ICP。端视ICP的检出限通常要比侧视提高几倍至一个数量级。这是由于侧视只观测到ICP正常分析区的一部分,信号量较小且背景较高。端视可以观测ICP光谱仪整个正常分析区的光发射信号,增加了可测的信号量,同时光谱背景较低,信背比高。因此,端视的检出限显着高于侧视。端视ICP的主要缺点是线性范围相对较小。而且分析基体复杂样品时基体效应较明显。这是由于在采用水平矩管端视ICP光谱仪时,等离子矩的尾焰温度低,产生电子、离子复合,从而可能产生自吸和分子光谱所致。为此通常要采用压缩空气“切割”尾焰,或者采用“冷锥技术”(在ICP尾焰区放置一个类似ICP-MS的接口锥的金属锥),可以有效地消除尾焰的干扰,以提视ICP的稳定性及减少端视ICP的基体干扰。
  ICP光谱仪的应用领域已得到迅速扩大,在光源方面不断进步,具有很好的发展前景。